電壓放大器在芯片級腔光力傳感器諧振腔耦合實驗中的應用
實驗名稱:芯片級腔光力傳感器諧振腔中的可控光機械耦合實驗
研究方向:腔光力系統、光子晶體技術、精密測量、噪聲抑制與Q值增強。
實驗目的:本研究采用絕緣體上硅(Silicon‐On‐Insulator,SOI)技術刻蝕制作的芯片級腔光力加速度計作為實驗的光機械系統。通過調節光纖耦合狀態改變腔內光場模態體積,實現光機械耦合強度的可控性。驗證強互鎖狀態下機械品質因數(Q值)的提升及系統底噪的抑制效果。開發高靈敏度的腔光力加速度傳感器,目標頻段為千赫茲范圍。
測試設備:
1、光學系統:激光源(工作波長1510nm)、光纖偏振控制器(FPC)、V型光纖錐(透射率>90%)。光電探測器(PD)、電子頻譜儀(ESA)、數據采集卡(DAQ)。
2、真空環境:真空腔(含水平振動臺)、真空計、顯微鏡觀測系統。
3、核心器件:硅基二維光子晶體諧振腔(尺寸16μm×10μm,晶格常數510nm)。高壓放大器(用于驅動壓電陶瓷產生加速度信號)。
4、模擬軟件:COMSOL(用于電場分布模擬)。
5、光機械耦合測試實驗系統原理圖見圖1(a),系統實物圖見圖1(b)。
注:①激光源;②光纖跳線;③三環偏振控制器;④真空光纖法蘭;⑤真空腔;⑥光電探測器;⑦頻譜儀;⑧真空排針;⑨電壓源;⑩波形發生器;?高壓放大器;?射頻跳線;?數據采集器;?計算機;?顯微鏡;?點光源;?真空計。


圖1:光機械耦合測試系統
實驗過程:
1、系統搭建:
(1)將光子晶體諧振腔安裝在真空腔內,通過V型光纖耦合激光。
(2)使用顯微鏡和納米促動器精確調控光纖位置,改變光場模態體積。
2、耦合調控:
(1)調整光纖與微腔的接觸狀態,誘導Drude自脈沖等離子體鎖定。
(2)監測自脈沖振蕩(1510.40–1511.06nm)與光機械自持續振蕩(1511.06–1511.86nm)的共存狀態,自脈沖振蕩和光機械共振共存的過渡狀態光學特性如圖2所示。

圖2:自脈沖振蕩和光機械共振共存的過渡狀態光學特性
3、性能測試:
(1)在強互鎖模式下,施加6kHz交流加速度激勵,記錄機械譜響應。圖3顯示了強互鎖模式下的光機械傳感響應,其中,黑線(Test1)表示靜止狀態下光機械傳感器的功率譜密度,而6kHz處的藍線(Test2)和紅線(Test3)則表示在施加不同幅值的6kHz交流加速度后的機械譜。

圖3:6kHz加速度激勵下強互鎖模式的光機械傳感響應
(2)通過頻譜分析計算靈敏度,并對比弱/強互鎖狀態的Q值與底噪差異,對其進行線性擬合后,可得出6kHz處加速度計的靈敏度為126.58mV/g如圖4所示。

圖4:6kHz加速度下強互鎖態加速度計傳感器的靈敏度
實驗結果:1、Q值提升:強互鎖狀態下機械Q值較弱互鎖狀態提升約10倍。2、噪聲抑制:系統底噪降低26dB。3、靈敏度:加速度傳感器在6kHz下達到126.58mV/g的靈敏度。4、光機械鎖定:功實現低頻(72.2kHz)光機械共振與自脈沖的互鎖。
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